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//名前の後ろのカッコ内は卒業・修了直後の所属先（現所属とは限りません）
（正式には博士課程＝博士後期課程，修士課程＝博士前期課程，です。）
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２０２５年３月
-修士課程
--斎藤慎太朗~
--斎藤　慎太朗~
修論題目：「化学気相成長法によるMo&subsc{6};Te&subsc{6};ナノワイヤーの多量成長」~
//ＭＧＣエレクトロテクノ株式会社
--猿田将大~
--猿田　将大~
修論題目：「Au/SiO&subsc{2};界面へのMoS&subsc{2};薄膜直接成長」~
//マイクロンメモリジャパン株式会社
--田村優奈~
--田村　優奈~
修論題目：「化学気相成長法によるMoS&subsc{2};ナノリボン形成」~
//TOPPAN株式会社
--飛田龍星~
--飛田　龍星~
修論題目：「銅電極ギャップ間への二硫化タングステン薄膜選択成長」~
//ルネサスエレクトロニクス株式会社
--中山皓太~
--中山　皓太~
修論題目：「4配位固体モリブデン前駆体を用いた二硫化モリブデン薄膜の原子層堆積成長」~
//マイクロンメモリジャパン株式会社
--森戸智~
--森戸　智~
修論題目：「不純物添加したMoS&subsc{2};バルク単結晶の成長と導電性評価」~
//株式会社ニューフレアテクノロジー
-卒業研究
--浦邉優斗~
--浦邉　優斗~
卒研課題：「陽極酸化Ta&subsc{2};O&subsc{5};をゲート酸化膜とするMoS&subsc{2};電界効果トランジスタの作製」~
//金沢大院
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２０２４年３月
-修士課程
--菊地　冬真~
修論題目：「液体ニオブ前駆体を用いた二セレン化ニオブ薄膜の成長」
//芝浦メカトロニクス株式会社
--佐々木　謙~
修論題目：「二硫化タングステン薄膜の原子層堆積成長における金属薄膜の効果」
//日清紡マイクロデバイス株式会社
--田中　彩音~
修論題目：「ファンデルワールス積層構造のバッファ層としての硫化ガリウム応用」
//東京エレクトロン株式会社
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２０２３年３月
-修士課程
--福島　崇史~
修論題目：「原子層堆積法により成長した二硫化タングステン薄膜の素子応用」
//株式会社ニューフレアテクノロジー
--吉田考希~
--吉田　考希~
修論題目：「液体前駆体による二硫化ニオブ薄膜の成長とX線光電子分光解析」
//株式会社高純度化学研究所
-卒業研究
--髙木直人~
--髙木　直人~
卒研課題：「Tiダイカルコゲナイド混晶のバルク単結晶形成と構造評価」
//さいたま市
--李嘉晨~
--李　嘉晨~
卒研課題：「Au/SiO&subsc{2};界面へのMoS&subsc{2};薄膜化学気相成長」
//東工大院
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２０２２年３月
-修士課程
--齋藤　修士~
修論題目：「結晶性二硫化タングステン薄膜の低温成長」
//キオクシア株式会社
--志田　知洋~
修論題目：「プラズマ照射による遷移金属ダイカルコゲナイトの相転移」
//日清紡マイクロデバイス株式会社
--山田　真矢~
修論題目：「原子層堆積法による二硫化モリブデン薄膜の領域選択成長」
//キオクシア株式会社
-卒業研究
--川村愛果~
卒研課題：「Reドープ遷移金属ダイカルコゲナイド単結晶の合成」
//株式会社コモドソリューションズ
--野中菜々子~
卒研課題：「高絶縁性層状カルコゲナイドのバッファ層応用」
//東工大院
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２０２１年３月
-修士課程
--井上　敬道~
修論題目：「液体前駆体による遷移金属ダイカルコゲナイド薄膜のエピタキシャル成長」
//太陽誘電株式会社
--森　拓哉~
修論題目：「β相二テルル化モリブデンの大型単結晶合成」
//日立造船株式会社
-卒業研究
--鈴木翔宜~
卒研課題：「溶液処理による層状物質FET素子の性能向上」
//財務省関税局・税関
--胡笑鳴~
卒研課題：「気相成長困難な遷移金属ダイカルコゲナイド単結晶の合成」
//北大院→阪大院
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２０２１年
-就職
--小野　悠太朗~
卒研課題：「MoTe&subsc{2};ガスセンサーの層数依存性」
//豊島製作所
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２０２０年３月
-修士課程
--赤根　大介~
修論題目：「二セレン化スズ結晶への13族元素ドーピングによる電気的挙動の制御」~
//キオクシアシステムズ株式会社
--近野　健人~
修論題目：「気相成長法による層状三セレン化二インジウム薄膜の形成」~
//田中貴金属工業株式会社
--町田　葉祐~
修論題目：「層状物質不活性表面における酸化物薄膜の形成」~
//株式会社アルバック
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２０１９年３月
-修士課程
--五十嵐　玲太~
修論題目：「原子層薄膜のCVD成長と電界効果トランジスターへの応用」~
//東京エレクトロン株式会社
--池田　幸弘~
修論題目：「原子層堆積法による層状遷移金属ダイカルコゲナイド薄膜の形成」~
//キヤノンアネルバ株式会社
--堀井　嵩斗~
修論題目：「二セレン化モリブデン/金属接合状態の解明と制御」~
//新日本無線株式会社
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２０１８年３月
-修士課程
--荻原　えりな~
修士論文題目：「カルコゲナイド系原子膜のガスセンサ応用」~
//関東化学株式会社
--新倉　伸幸~
修士論文題目：「ハフニウムダイカルコゲナイドのFET素子応用」~
//日興リカ株式会社
~
-就職
--原田　恭介~
卒研課題：「原子層堆積法による酸化膜を用いた層状物質電界効果トランジスタ形成」
//自衛隊
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２０１７年３月
-修士課程
--河合　信哉~
修士論文題目：「層状遷移金属ダイカルコゲナイドFET動作特性の温度依存性」~
//株式会社リクルート住まいカンパニー
--木村　貴大~
修士論文題目：「層状原子膜による有機無機ヘテロ接合太陽電池の高性能化」
//ネクストエナジー・アンド・リソース株式会社
--田村　透~
修士論文題目：「層状13族カルコゲナイドの単結晶成長とFET応用」~
//新電元工業株式会社
-卒業研究
--笠原　千暁~
卒研課題：「裏面接合型有機無機ヘテロ接合太陽電池の表面保護」
//独立行政法人　国立印刷局
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２０１６年３月
-修士課程
--田崎　直也~
//亜細亜工業株式会社
修士論文題目：「層状セレン，テルル化合物薄膜の化学気相成長」~
--中西　将毅~
修士論文題目：「黒リン単結晶の気相成長と電界効果トランジスタ応用」
//北海道庁
--福島　宏治~
修士論文題目：「層状テルル化合物単結晶の合成，物性解析と電界効果トランジスタ応用」~
//山下ゴム株式会社
--八木　大地~
修士論文題目：「酸化物層挿入による有機/Siヘテロ接合太陽電池の高性能化」~
//株式会社フコク
-卒業研究
--程　迎~
卒研課題：「裏面接合型Si/有機ヘテロ接合太陽電池の開発」
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２０１５年３月
-修士課程
--黒崎　祐太郎~
修士論文題目：「前駆体塗布膜からの層状カルコゲナイド薄膜形成に関する研究」
//株式会社　ケミトックス
--武居　雄輝~
修士論文題目：「Si／PEDOT:PSSヘテロ接合太陽電池の安定性評価に関する研究」
//日興リカ株式会社
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２０１４年３月
-修士課程
--竹内　彩~
//（NECエナジーデバイス株式会社）~
修士論文題目：「グラフェン積層膜への層状物質ドーピング」~
--田端　祐輔~
//（日興リカ株式会社）~
修士論文題目：「層状化合物半導体単結晶の合成と電界効果トランジスタ応用」~
--馬場　智矢~
//（太平洋セメント株式会社）~
修士論文題目：「通電加熱法と塗布高分子膜を用いたグラフェン形成」~

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２０１３年３月
-博士課程
--石川　良~
//（埼玉大学大学院理工学研究科／工学部機能材料工学科　白井研究室　助教）~
博士論文題目：「塗布形成有機薄膜太陽電池の高効率化と動作特性解析」~
--菅沼　洸一~
//（日興リカ株式会社）~
博士論文題目：「可溶化グラフェンを用いた新奇高機能電界効果トランジスタの開発」~
-修士課程
--喜志　真佑子~
//（NECエナジーデバイス株式会社）→株式会社レゾナック~
修士論文題目：「新規な塗布正孔輸送層による有機薄膜太陽電池の高性能化」~
--坂本　舞~
//（富士フイルムオプティクス株式会社）~
修士論文題目：「可溶化グラフェン添加による有機薄膜電界効果トランジスタの性能向上」~
-卒業研究
--柴山　拓~
//（櫻護謨株式会社）~
卒研課題：「基板面方位最適化による結晶Si／PEDOT:PSSヘテロ接合太陽電池の効率改善」~

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２０１２年３月
-修士課程
--久保　洋輔~
//（大日本印刷株式会社）~
修士論文題目：「可溶化グラフェンの有機薄膜太陽電池への応用に関する研究」
--吉永　裕亮~
//（日興リカ株式会社）~
修士論文題目：「ゲート誘電体中微量不純物による有機電界効果トランジスタの動作特性制御」
-卒業研究
--ムン　ジンシル~
//（東京化成工業株式会社）~
卒研課題：「無機層状半導体／有機高分子ヘテロ接合太陽電池の作製」
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２０１１年３月
-修士課程
--加藤　彰悟~
//（DOWAホールディングス株式会社）~
修士論文題目：「単層剥離・可溶化した層状遷移金属カルコゲナイドの有機薄膜太陽電池への応用」
--福島　宏幸~
//（埼玉県公務員）~
修士論文題目：「静電塗布法を用いた導電性グラフェン薄膜形成に関する研究」
--渡辺　俊一郎~
//（三井金属鉱業株式会社）~
修士論文題目：「p型およびn型有機薄膜電界効果トランジスタの塗布形成に関する研究」
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２０１０年３月
-修士課程
--吉田　雅史~
//（石塚電子株式会社）→？~
修士論文題目：「グラフェン透明導電膜を用いた有機薄膜太陽電池の作製」
-卒業研究
--清水　宏崇~
//（国家公務員）~
卒研課題：「可溶化グラフェンによる有機薄膜太陽電池の高効率化」
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２００９年３月
-修士課程
--武林　聡子~
//（オプトエレクトロニクス株式会社）~
修士論文題目：「低電圧両極動作有機電界効果トランジスタの形成に関する研究」
-卒業研究
--中山　真一~
//（株式会社 きもと）~
卒研課題：「グラフェン電極を用いた有機薄膜太陽電池の作製に関する研究」
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-博士課程・研究員
--小野木　亮　博士（理学）~
博士論文題目："Fabrication and Characterization of Anisotropic Organic single-crystalline Thin Films"&br;
//２００９年１月より：三菱電機システムサービス株式会社　加速器技術センター
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２００８年３月
-修士課程
--川端　ちひろ~
//（帝人株式会社）&br;
修士論文題目：「ステップバンチSi基板を利用した有機薄膜の位置選択成長」&br;
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２００７年３月
-修士課程
--阿部　重臣~
//（大成ラミック株式会社）&br;
修士論文題目：「高誘電率ゲート基板上への高性能有機FET形成」
--松本　晃~
//（双葉電子工業株式会社）&br;
修士論文題目：「マイカをゲート基板に用いた有機電界効果トランジスタに関する研究」
-卒業研究
--白石　淳子~
//（東京大学新領域創成科学研究科　斉木研究室）（修了）&br;
卒研課題：「層状物質の化学的薄片剥離に関する研究」
--高橋　新~
//（東京大学新領域創成科学研究科　佐々木研究室）（修了）&br;
卒研課題：「ヘキサベンゾコロネン誘導体薄膜の成長に関する研究」
--坪倉　陽~
//（アビームコンサルティング株式会社）&br;
卒研課題：「Si(111)基板上へのジアセチレン誘導体単結晶薄膜成長に関する研究」
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２００６年３月
-卒業研究
--平岡　和~
//（東京工業大学応セラ研　松本研究室）（修了）&br;
卒研課題：「インプリンティング法による有機FETゲート誘電体表面の微細加工」
--保戸塚　梢~
//（東京工業大学応セラ研　松本研究室）（修了）&br;
卒研課題：「光触媒酸化物基板を用いた金属ナノ構造形成」
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２００５年３月
-卒業研究
--恵比根　明香~
//（綜研化学株式会社）&br;
卒研課題：「表面微細加工によるペンタセン超薄膜の成長制御」
--畑本　高広~
//（ヤマトシステム開発株式会社）&br;
卒研課題：「電解研磨Ta基板上に形成した陽極酸化被膜の特性評価」
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２００４年３月
-卒業研究
--東海林　健~
//（？）&br;
卒研課題：「熱酸化SiO&subsc{2};上ペンタセン超薄膜の成長様式」
--山崎　武史~
//（株式会社エヌ・ティ・ティ・ドコモ）&br;
卒研課題：「陽極酸化Taゲートを持つ有機FETの性能向上に関する研究
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*卒業生の就職先（卒業時における就職先のみ記載） [#f70ce5c2]

-亜細亜工業株式会社
-アビームコンサルティング株式会社
-石塚電子株式会社
-NECエナジーデバイス株式会社
-MGCエレクトロテクノ株式会社
-オプトエレクトロニクス株式会社
-株式会社アルバック
-株式会社エヌ・ティ・ティ・ドコモ
-株式会社きもと
-株式会社ケミトックス
-株式会社高純度化学研究所
-株式会社コモドソリューションズ
-株式会社豊島製作所
-株式会社ニューフレアテクノロジー
-株式会社フコク
-株式会社リクルート住まいカンパニー
-関東化学株式会社
-キオクシア株式会社
-キオクシアシステムズ株式会社
-キヤノンアネルバ株式会社
-櫻護謨株式会社
-芝浦メカトロニクス株式会社
-新電元工業株式会社
-新日本無線株式会社
-日清紡マイクロデバイス株式会社
-綜研化学株式会社
-大成ラミック株式会社
-大日本印刷株式会社
-太平洋セメント株式会社
-太陽誘電株式会社
-田中貴金属工業株式会社
-帝人株式会社
-東京エレクトロン株式会社
-東京化成工業株式会社
-DOWAホールディングス株式会社
-TOPPAN株式会社
-ネクストエナジー・アンド・リソース株式会社
-日立造船株式会社
-日興リカ株式会社
-富士フイルムオプティクス株式会社
-双葉電子工業株式会社
-マイクロンメモリジャパン株式会社
-三井金属鉱業株式会社
-三菱電機システムサービス株式会社
-山下ゴム株式会社
-ヤマトシステム開発株式会社
-ルネサスエレクトロニクス株式会社
-独立行政法人　国立印刷局
-自衛隊
-国家公務員
-北海道公務員
-埼玉県公務員
-さいたま市公務員
-埼玉大学　助教
*他大学大学院進学 [#eed20e74]
-東京大学
-東京工業大学
-北海道大学
-金沢大学
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