「今日の画像」の解説の履歴(No.6)

Bilayer-GaSe終端Si(111)表面に形成したグリッド状AFM陽極酸化パターン。4500 nm×4500 nm。

Bilayer-GaSe終端Si(111)表面に形成した星形AFM陽極酸化パターン。5000 nm×5000 nm。

GaSe/MoS2層状物質ヘテロ構造基板上に形成されたC60ナノ構造のAFM像。1800 nm×1800 nm。

C60の分子構造

Bilayer-GaSe終端Si(111)表面に形成したGaAs量子ドットのAFM像。500 nm×500 nm。

MoS2基板上に成長した単層GaSe薄膜のSTM像に見られる原子像と長周期モアレ変調構造。10 nm×10 nm。

Siの結晶構造

Bilayer-GaSe終端Si(111)表面に形成したZnO量子ドットのAFM像。500 nm×500 nm。

MoS2単結晶（母岩無し）。

MoS2単結晶（母岩有り）。

Bilayer-GaSe終端微傾斜Si(111)表面に直延伸成長した単結晶C60ドメイン。20 μm×20 μm。

酸化グラファイトの単層剥離により生成した酸化グラフェンの水溶液。

DMF中で超音波印加により剥離分散させたグラフェン溶液。

ステップバンチSi(111)基板上P3HT塗布膜の偏光NEXAFS分光法による配向性評価。

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