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現役メンバー

Last-modified: 2023-04-01 (土) 09:37:04 (184d)
Top / 現役メンバー

上野研究室 構成員(2022年度)

・教授 上野 啓司 博士(理学)
・Researcher ID: B-2741-2012
・ORCID: orcid.org/0000-0002-5535-9382

・助教 Lim Hong En (リム・ホン・エン) 博士(理学)
・ORCID: orcid.org/0000-0003-0347-8897


2023(令和5)年度


・博士前期課程2年 菊地冬真

  • 研究課題:「液体ニオブ前駆体を用いた二セレン化ニオブ薄膜の成長」

・博士前期課程2年 佐々木謙

  • 研究課題:「二硫化タングステン薄膜のALD成長における金属薄膜の効果」

・博士前期課程2年 田中彩音

  • 研究課題:「ファンデルワールス積層構造のバッファ層としての硫化ガリウム応用」

・博士前期課程1年 斎藤慎太朗

  • 研究課題:「化学気相成長法によるMo6Te6ナノワイヤーの多量成長」

・博士前期課程1年 猿田将大

  • 研究課題:「Au/SiO2界面へのMoS2薄膜化学気相成長」

・博士前期課程1年 田村優奈

  • 研究課題:「化学気相成長法によるMoS2ナノリボン形成」

・博士前期課程1年 飛田龍星

  • 研究課題:「銅電極ギャップ間への二硫化タングステン薄膜選択成長」

・博士前期課程1年 中山皓太

  • 研究課題:「4配位固体Mo前駆体を用いたMoS2薄膜の低温ALD成長」

・博士前期課程1年 森戸智

  • 研究課題:「不純物添加したMoS2バルク単結晶の成長と導電性評価」

学部4年生
・秋元千佳
・元木友佑
・山口頌平
・山口真由
・山田樹
・渡邊陽斗


・その他の研究課題

  • 層状カルコゲナイド薄膜のMBE成長と素子応用
  • 前駆体塗布膜カルコゲン化によるMCh2薄膜形成
  • pn特性が制御されたMCh2単結晶形成とデバイス応用
  • 1次元カルコゲナイド物質に関する研究

などを予定しています。


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