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現役メンバー

Last-modified: 2023-01-30 (月) 13:15:53 (9d)
Top / 現役メンバー

上野研究室 構成員(2022年度)

・教授 上野 啓司 博士(理学)
・Researcher ID: B-2741-2012
・ORCID: orcid.org/0000-0002-5535-9382

・助教 Lim Hong En (リム・ホン・エン) 博士(理学)
・ORCID: orcid.org/0000-0003-0347-8897


2022(令和4)年度


・博士前期課程2年 福島崇史

  • 修論課題:「原子層堆積法により成長した二硫化タングステン薄膜の素子応用」

・博士前期課程2年 吉田考希

  • 修論課題:「液体前駆体による二硫化ニオブ薄膜の成長とX線光電子分光解析」

・博士前期課程1年 菊地冬真

  • 研究課題:「液体ニオブ前駆体を用いた二セレン化ニオブ薄膜の成長」

・博士前期課程1年 佐々木謙

  • 研究課題:「二硫化タングステン薄膜のALD成長における金属薄膜の効果」

・博士前期課程1年 田中彩音

  • 研究課題:「ファンデルワースル積層構造のバッファ層としての硫化ガリウム応用」

学部4年生
・斎藤慎太朗 卒研課題:「CVD法によるMo6Te6ナノワイヤー形成」
・髙木直人  卒研課題:「Tiダイカルコゲナイド混晶のバルク単結晶形成と構造評価」
・田村優奈  卒研課題:「CVD法によるMoS2ナノリボン形成」
・飛田龍星  卒研課題:「銅電極ギャップ間へのWS2薄膜選択成長」
・中山皓太  卒研課題:「4配位固体Mo前駆体を用いたMoS2薄膜の低温ALD成長」
・森戸智   卒研課題:「不純物添加したMoS2バルク単結晶の成長と導電性評価」
・李嘉晨   卒研課題:「Au/SiO2界面へのMoS2単層膜CVD成長」


仮配属3年生
・秋元千佳
・元木友佑
・山口頌平
・山口真由
・山田樹
・渡邊陽斗


・その他の研究課題

  • 層状カルコゲナイド薄膜のMBE成長と素子応用
  • 前駆体塗布膜カルコゲン化によるMCh2薄膜形成
  • pn特性が制御されたMCh2単結晶形成とデバイス応用
  • 新規構造Si/PEDOT:PSSヘテロ接合太陽電池
  • 表面終端法改良による有機高分子/Siヘテロ接合太陽電池の高効率化
  • 酸化グラフェンの複合材料応用

などを予定しています。


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